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鉻退鍍劑配方生產技術
鉻退鍍劑由氧化劑、緩蝕劑及其它助劑配制而成，常用于光學玻璃與金屬真空鉻鍍層的脫除返工處理，具有快速滲透、和超強溶解鉻鍍層的能力，無殘留，易漂洗，低氣味，使用簡單，不傷底材等特點。
應用領域：適用于各種金屬材質、藍寶石、陶瓷、手機面板，光學鏡頭，光學零部件等真空鍍鉻工件的返工處理。
市場前景：鉻鍍層具有優良的裝飾性能和功能性能，真空鍍鉻是在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式將鉻沉積在工件表面。真空鍍鉻相比傳統濕法鍍鉻具有明顯的優越性：真空鍍鉻層不僅附著力更好、致密度更高，而且具有優良的硬度及耐蝕性能，可以得到很薄的表面鉻鍍層。由于鉻是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，所以避免了生產及廢液處理過程中造成的環境污染。因此，真空鍍鉻在高科技產業化的發展中得到廣泛應用。
鍍鉻工件在使用完畢或發現有瑕疵時通常需要進行退鍍。目前，工業上主要使用電解法和化學法兩種方法進行退鍍鉻。其中電解法由于不僅需要外加直流電源，工藝相對復雜；而且受電力線分布不均勻的影響，對工件難以均勻退鍍，尤其對幾何形狀復雜的工件難有良好的退鍍效果，因而更傾向于使用化學法。但是現有化學法還存在一些不足，比如：退鉻速度緩慢、難以退鍍干凈及環境污染大的問題，嚴重影響了工業生產效率。
本化學退鉻液快速高效退鉻；制備方法簡單易控，易于產業化。
本化學退鉻液配方采用氧化劑、促進劑、穩定劑、緩蝕劑以及水配制，溫度范圍為30～50℃，退鉻速度1～2μm/min，退鉻時間不但比同類產品縮短50％以上，且退鍍干凈而不傷基材，退鉻過程中無氣體產生，減小了對環境的污染。低溫條件下仍具有良好的退鉻效果，降低了對能源的消耗。本真空鍍鉻快速退鉻技術穩定、性能優良，在高科技產業化的發展中有著廣泛的應用前景。
技術服務：鉻退鍍劑（化學退鉻液）配方生產技術280元，提供原料介紹、生產配方、工藝流程、退鉻方法等，包括真空鍍鉻快速退鉻液的配制及在真空鍍鉻快速退鉻液中退真空鍍鉻層的方法
，提供技術支持。
上一技術：鋁材退陽極氧化膜液下一技術：鎳防變色保護劑
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